ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਦਖਲਅੰਦਾਜ਼ੀ ਤੋਂ ਵੈਕਿਊਮ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਤੱਕ: ਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨਾਂ ਵਿੱਚ ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਬੇਸਾਂ ਦੀ ਅਟੱਲ ਤਬਦੀਲੀ।

​
ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਨਿਰਮਾਣ ਦੇ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ, ਚਿੱਪ ਨਿਰਮਾਣ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨੂੰ ਨਿਰਧਾਰਤ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਮੁੱਖ ਉਪਕਰਣ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ, ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਦੇ ਅੰਦਰੂਨੀ ਵਾਤਾਵਰਣ ਦੀ ਸਥਿਰਤਾ ਬਹੁਤ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹੈ। ਅਤਿਅੰਤ ਅਲਟਰਾਵਾਇਲਟ ਰੋਸ਼ਨੀ ਸਰੋਤ ਦੇ ਉਤੇਜਨਾ ਤੋਂ ਲੈ ਕੇ ਨੈਨੋਸਕੇਲ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਮੋਸ਼ਨ ਪਲੇਟਫਾਰਮ ਦੇ ਸੰਚਾਲਨ ਤੱਕ, ਹਰ ਲਿੰਕ ਵਿੱਚ ਕੋਈ ਮਾਮੂਲੀ ਭਟਕਣਾ ਨਹੀਂ ਹੋ ਸਕਦੀ। ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਬੇਸ, ਵਿਲੱਖਣ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੀ ਇੱਕ ਲੜੀ ਦੇ ਨਾਲ, ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨਾਂ ਦੇ ਸਥਿਰ ਸੰਚਾਲਨ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਣ ਅਤੇ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਵਿੱਚ ਬੇਮਿਸਾਲ ਫਾਇਦੇ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦੇ ਹਨ।
ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਸ਼ੀਲਡਿੰਗ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ
ਇੱਕ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਦਾ ਅੰਦਰੂਨੀ ਹਿੱਸਾ ਇੱਕ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਵਾਤਾਵਰਣ ਨਾਲ ਭਰਿਆ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਅਤਿਅੰਤ ਅਲਟਰਾਵਾਇਲਟ ਰੋਸ਼ਨੀ ਸਰੋਤਾਂ, ਡਰਾਈਵ ਮੋਟਰਾਂ ਅਤੇ ਉੱਚ-ਫ੍ਰੀਕੁਐਂਸੀ ਪਾਵਰ ਸਪਲਾਈ ਵਰਗੇ ਹਿੱਸਿਆਂ ਦੁਆਰਾ ਪੈਦਾ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਦਖਲਅੰਦਾਜ਼ੀ (EMI), ਜੇਕਰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਨਹੀਂ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਉਪਕਰਣ ਦੇ ਅੰਦਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਹਿੱਸਿਆਂ ਅਤੇ ਆਪਟੀਕਲ ਪ੍ਰਣਾਲੀਆਂ ਦੇ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਨੂੰ ਗੰਭੀਰਤਾ ਨਾਲ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰੇਗਾ। ਉਦਾਹਰਣ ਵਜੋਂ, ਦਖਲਅੰਦਾਜ਼ੀ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਪੈਟਰਨਾਂ ਵਿੱਚ ਮਾਮੂਲੀ ਭਟਕਣਾ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਉੱਨਤ ਨਿਰਮਾਣ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਵਿੱਚ, ਇਹ ਚਿੱਪ 'ਤੇ ਗਲਤ ਟਰਾਂਜ਼ਿਸਟਰ ਕਨੈਕਸ਼ਨਾਂ ਵੱਲ ਲੈ ਜਾਣ ਲਈ ਕਾਫ਼ੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਚਿੱਪ ਦੀ ਉਪਜ ਨੂੰ ਕਾਫ਼ੀ ਘਟਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ​
ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਇੱਕ ਗੈਰ-ਧਾਤੂ ਸਮੱਗਰੀ ਹੈ ਅਤੇ ਆਪਣੇ ਆਪ ਬਿਜਲੀ ਨਹੀਂ ਚਲਾਉਂਦੀ। ਧਾਤੂ ਸਮੱਗਰੀ ਵਾਂਗ ਅੰਦਰ ਮੁਕਤ ਇਲੈਕਟ੍ਰੌਨਾਂ ਦੀ ਗਤੀ ਕਾਰਨ ਕੋਈ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਇੰਡਕਸ਼ਨ ਵਰਤਾਰਾ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦਾ। ਇਹ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ ਇਸਨੂੰ ਇੱਕ ਕੁਦਰਤੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਸ਼ੀਲਡਿੰਗ ਬਾਡੀ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਅੰਦਰੂਨੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਦਖਲਅੰਦਾਜ਼ੀ ਦੇ ਪ੍ਰਸਾਰਣ ਮਾਰਗ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਰੋਕ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਜਦੋਂ ਬਾਹਰੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਦਖਲਅੰਦਾਜ਼ੀ ਸਰੋਤ ਦੁਆਰਾ ਪੈਦਾ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਬਦਲਵਾਂ ਚੁੰਬਕੀ ਖੇਤਰ ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਅਧਾਰ ਤੱਕ ਫੈਲਦਾ ਹੈ, ਕਿਉਂਕਿ ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਗੈਰ-ਚੁੰਬਕੀ ਹੈ ਅਤੇ ਇਸਨੂੰ ਚੁੰਬਕੀ ਨਹੀਂ ਬਣਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ, ਤਾਂ ਬਦਲਵੇਂ ਚੁੰਬਕੀ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਕਰਨਾ ਮੁਸ਼ਕਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਅਧਾਰ 'ਤੇ ਸਥਾਪਤ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਦੇ ਮੁੱਖ ਹਿੱਸਿਆਂ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਸੈਂਸਰ ਅਤੇ ਆਪਟੀਕਲ ਲੈਂਸ ਐਡਜਸਟਮੈਂਟ ਡਿਵਾਈਸਾਂ, ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਦਖਲਅੰਦਾਜ਼ੀ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਤੋਂ ਬਚਾਉਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਪੈਟਰਨ ਟ੍ਰਾਂਸਫਰ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ।

ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਵੈਕਿਊਮ ਅਨੁਕੂਲਤਾ
ਕਿਉਂਕਿ ਅਤਿਅੰਤ ਅਲਟਰਾਵਾਇਲਟ ਰੋਸ਼ਨੀ (EUV) ਹਵਾ ਸਮੇਤ ਸਾਰੇ ਪਦਾਰਥਾਂ ਦੁਆਰਾ ਆਸਾਨੀ ਨਾਲ ਸੋਖ ਲਈ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, EUV ਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨਾਂ ਨੂੰ ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ ਕੰਮ ਕਰਨਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ। ਇਸ ਸਮੇਂ, ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਤਾਵਰਣ ਨਾਲ ਉਪਕਰਣ ਦੇ ਹਿੱਸਿਆਂ ਦੀ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਬਣ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਵੈਕਿਊਮ ਵਿੱਚ, ਸਮੱਗਰੀ ਘੁਲ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਸੋਖ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਗੈਸ ਛੱਡ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਜਾਰੀ ਕੀਤੀ ਗਈ ਗੈਸ ਨਾ ਸਿਰਫ਼ EUV ਰੋਸ਼ਨੀ ਨੂੰ ਸੋਖ ਲੈਂਦੀ ਹੈ, ਰੌਸ਼ਨੀ ਦੀ ਤੀਬਰਤਾ ਅਤੇ ਸੰਚਾਰ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਨੂੰ ਘਟਾਉਂਦੀ ਹੈ, ਸਗੋਂ ਆਪਟੀਕਲ ਲੈਂਸਾਂ ਨੂੰ ਵੀ ਦੂਸ਼ਿਤ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਉਦਾਹਰਣ ਵਜੋਂ, ਪਾਣੀ ਦੀ ਭਾਫ਼ ਲੈਂਸਾਂ ਨੂੰ ਆਕਸੀਡਾਈਜ਼ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਹਾਈਡਰੋਕਾਰਬਨ ਲੈਂਸਾਂ 'ਤੇ ਕਾਰਬਨ ਪਰਤਾਂ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਜੋ ਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ ਨੂੰ ਗੰਭੀਰਤਾ ਨਾਲ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰਦੇ ਹਨ।
ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਵਿੱਚ ਸਥਿਰ ਰਸਾਇਣਕ ਗੁਣ ਹੁੰਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ ਇਹ ਮੁਸ਼ਕਿਲ ਨਾਲ ਗੈਸ ਛੱਡਦਾ ਹੈ। ਪੇਸ਼ੇਵਰ ਟੈਸਟਿੰਗ ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ, ਇੱਕ ਸਿਮੂਲੇਟਡ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ (ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਅਲਟਰਾ-ਕਲੀਨ ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਤਾਵਰਣ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਮੁੱਖ ਚੈਂਬਰ ਵਿੱਚ ਰੋਸ਼ਨੀ ਆਪਟੀਕਲ ਸਿਸਟਮ ਅਤੇ ਇਮੇਜਿੰਗ ਆਪਟੀਕਲ ਸਿਸਟਮ ਸਥਿਤ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਜਿਸ ਲਈ H₂O < 10⁻⁵ Pa, CₓHᵧ < 10⁻⁷ Pa ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ), ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਬੇਸ ਦੀ ਆਊਟਗੈਸਿੰਗ ਦਰ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਧਾਤਾਂ ਵਰਗੀਆਂ ਹੋਰ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਨਾਲੋਂ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਇਹ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਦੇ ਅੰਦਰੂਨੀ ਹਿੱਸੇ ਨੂੰ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਉੱਚ ਵੈਕਿਊਮ ਡਿਗਰੀ ਅਤੇ ਸਫਾਈ ਬਣਾਈ ਰੱਖਣ ਦੇ ਯੋਗ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਪ੍ਰਸਾਰਣ ਦੌਰਾਨ EUV ਰੋਸ਼ਨੀ ਦੇ ਉੱਚ ਸੰਚਾਰ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਆਪਟੀਕਲ ਲੈਂਸਾਂ ਲਈ ਇੱਕ ਅਤਿ-ਸਾਫ਼ ਵਰਤੋਂ ਵਾਤਾਵਰਣ, ਆਪਟੀਕਲ ਸਿਸਟਮ ਦੀ ਸੇਵਾ ਜੀਵਨ ਨੂੰ ਵਧਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਦੀ ਸਮੁੱਚੀ ਕਾਰਗੁਜ਼ਾਰੀ ਨੂੰ ਵਧਾਉਂਦਾ ਹੈ।
ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਥਰਮਲ ਸਥਿਰਤਾ
ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ, ਨੈਨੋਮੀਟਰ ਪੱਧਰ 'ਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਲਈ ਇਹ ਜ਼ਰੂਰੀ ਹੈ ਕਿ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਵਿੱਚ ਥੋੜ੍ਹੀ ਜਿਹੀ ਵੀ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਜਾਂ ਥਰਮਲ ਵਿਗਾੜ ਨਾ ਹੋਵੇ। ਵਰਕਸ਼ਾਪ ਵਿੱਚ ਹੋਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਅਤੇ ਕਰਮਚਾਰੀਆਂ ਦੀ ਗਤੀ ਦੇ ਸੰਚਾਲਨ ਦੁਆਰਾ ਪੈਦਾ ਹੋਣ ਵਾਲੇ ਵਾਤਾਵਰਣਕ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ, ਅਤੇ ਨਾਲ ਹੀ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਦੁਆਰਾ ਆਪਰੇਸ਼ਨ ਦੌਰਾਨ ਪੈਦਾ ਹੋਣ ਵਾਲੀ ਗਰਮੀ, ਸਾਰੇ ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਿੱਚ ਵਿਘਨ ਪਾ ਸਕਦੇ ਹਨ। ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਇੱਕ ਸਖ਼ਤ ਬਣਤਰ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਸ ਵਿੱਚ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੈ। ਇਸਦਾ ਅੰਦਰੂਨੀ ਖਣਿਜ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਢਾਂਚਾ ਸੰਖੇਪ ਹੈ, ਜੋ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਊਰਜਾ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਘਟਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰਸਾਰ ਨੂੰ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਦਬਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਪ੍ਰਯੋਗਾਤਮਕ ਡੇਟਾ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਉਸੇ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਸਰੋਤ ਦੇ ਅਧੀਨ, ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਬੇਸ 0.5 ਸਕਿੰਟਾਂ ਦੇ ਅੰਦਰ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਐਪਲੀਟਿਊਡ ਨੂੰ 90% ਤੋਂ ਵੱਧ ਘਟਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਧਾਤ ਦੇ ਅਧਾਰ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ, ਇਹ ਉਪਕਰਣ ਨੂੰ ਸਥਿਰਤਾ ਵਿੱਚ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਬਹਾਲ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਲੈਂਸ ਅਤੇ ਵੇਫਰ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਸਹੀ ਸਾਪੇਖਿਕ ਸਥਿਤੀ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਕਾਰਨ ਹੋਣ ਵਾਲੇ ਪੈਟਰਨ ਧੁੰਦਲੇਪਣ ਜਾਂ ਗਲਤ ਅਲਾਈਨਮੈਂਟ ਤੋਂ ਬਚਦਾ ਹੈ।
ਇਸ ਦੌਰਾਨ, ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਦੇ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਦਾ ਗੁਣਾਂਕ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਹੈ, ਲਗਭਗ (4-8) ×10⁻⁶/℃, ਜੋ ਕਿ ਧਾਤੂ ਪਦਾਰਥਾਂ ਨਾਲੋਂ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਹੈ। ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਮਸ਼ੀਨ ਦੇ ਸੰਚਾਲਨ ਦੌਰਾਨ, ਭਾਵੇਂ ਪ੍ਰਕਾਸ਼ ਸਰੋਤ ਤੋਂ ਗਰਮੀ ਪੈਦਾ ਕਰਨ ਅਤੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਹਿੱਸਿਆਂ ਤੋਂ ਰਗੜ ਵਰਗੇ ਕਾਰਕਾਂ ਕਾਰਨ ਅੰਦਰੂਨੀ ਤਾਪਮਾਨ ਵਿੱਚ ਉਤਰਾਅ-ਚੜ੍ਹਾਅ ਆਉਂਦਾ ਹੈ, ਗ੍ਰੇਨਾਈਟ ਅਧਾਰ ਅਯਾਮੀ ਸਥਿਰਤਾ ਬਣਾਈ ਰੱਖ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਸੰਕੁਚਨ ਦੇ ਕਾਰਨ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਵਿਗਾੜ ਤੋਂ ਨਹੀਂ ਗੁਜ਼ਰੇਗਾ। ਇਹ ਆਪਟੀਕਲ ਸਿਸਟਮ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗਤੀ ਪਲੇਟਫਾਰਮ ਲਈ ਸਥਿਰ ਅਤੇ ਭਰੋਸੇਮੰਦ ਸਹਾਇਤਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਫੋਟੋਲਿਥੋਗ੍ਰਾਫੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਦੀ ਇਕਸਾਰਤਾ ਨੂੰ ਬਣਾਈ ਰੱਖਦਾ ਹੈ।